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[期刊论文] 作者：洪郁庭,蔡裕文,陈宏铭,,
来源：中国集成电路 年份：2010
工艺参数的变异导致半导体制造过程的偏差。这种变异无法避免而且在深亚微米领域,受限于光刻分辨率;氧化层腐蚀造成厚度的改变,因化学机械抛光铜金属线使铜金属层所造成的不...
[期刊论文] 作者：赖颖俊,陈宏铭,蔡裕文,熊凯,,
来源：中国集成电路 年份：2011
本文介绍一种发射通道模型来仿真液晶显示屏所产生的电磁干扰噪声。通道模型包含基于IEC61967-2标准（横电磁波传输室的辐射发射）的封装、印刷电路板以及辐射柔性印刷电路板等模......
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