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[学位论文] 作者：裘武龙,,
来源：北京工业大学 年份：2014
随着集成电路技术的不断发展，工艺特征尺寸迅速缩小至纳米级别。纳米工艺下芯片功能更为强大，同时芯片设计变得更为复杂。工艺、电压、温度（ProcessVoltage Temperature, PVT）的...
[期刊论文] 作者：裘武龙,于忠臣,,
来源：中国集成电路 年份：2014
如今的集成电路（IntegratedCircuit，IC）设计往往要求芯片包含多个工作模式，并且在不同工艺角（corner）下能正常工作。工艺角和工作模式的增加，无疑使时序收敛面临极大挑战。本文介绍......
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