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[期刊论文] 作者：黄佳木,吕佳,张新元,覃丽璐,
来源：电子元件与材料 年份：2006
采用射频反应磁控溅射工艺，以纯钽、锆为靶材，在WO3/ITO/玻璃基材上制备TaOx：Zr薄膜。研究锆掺入量、掺杂方式、溅射功率等制备工艺参数对TaOx薄膜性能的影响。用三位电极法和透...
[期刊论文] 作者：黄佳木,吕佳,张新元,覃丽璐,,
来源：电子元件与材料 年份：2006
采用射频反应磁控溅射工艺,以纯钽、锆为靶材,在WO3/ITO/玻璃基材上制备TaOx:Zr薄膜。研究锆掺入量、掺杂方式、溅射功率等制备工艺参数对TaOx薄膜性能的影响。用三位电极法...
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