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[期刊论文] 作者：路一泽, 檀柏梅, 高宝红, 刘宜霖, 胡新星,,
来源：微纳电子技术 年份：2004
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[期刊论文] 作者：刘宜霖,檀柏梅,高宝红,胡新星,路一泽,,
来源：微纳电子技术 年份：2017
铜布线化学机械抛光(CMP)后清洗的主要对象是CMP工艺后在铜表面的残留物,包括硅溶胶颗粒、金属离子与有机物残留。采用PVA刷洗的清洗方式对CMP后表面残留的硅溶胶颗粒与表面...
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