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[学位论文] 作者：韦宇冲,,
来源：华南理工大学 年份：2020
目前石墨烯在传感器、光、电、热等领域的应用取得了一定进展,但要提高其使用性能,还需要制备出缺陷密度更小、均匀度更好的高质量石墨烯。本文利用化学气相沉积法在铜箔表面制备石墨烯,通过对铜箔表面进行预处理,引入不同碳势(甲基分压,P(CH_3))以及探究氢杂质......
[会议论文] 作者：韦宇冲, 苏东艺, 彭继华,,
来源： 年份：2004
采用常压化学气相沉积法(CVD)在铜箔表面制备石墨烯薄膜,并对生长石墨烯的铜箔进行不同条件的退火处理,研究经不同热处理后铜箔对相同条件下生长石墨烯导电性能的影响。实验...
[期刊论文] 作者：杨满中, 彭继华, 韦宇冲,,
来源：哈尔滨工业大学学报 年份：2019
为探讨低氮掺杂对含氢类金刚石组织结构和力学性能的影响.采用非平衡磁控溅射和等离子增强化学气相沉积(PECVD)复合技术,在316不锈钢和硅片上制备碳化钨过渡层和不同掺氮量的...
[会议论文] 作者：袁良川, 彭继华, 韦宇冲, 苏东艺,
来源：第十五届全国薄膜技术学术研讨会摘要集 年份：2019
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