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[学位论文] 作者：韩丽楠,,
来源：山东大学 年份：2014
移动互联网是当前的时代趋势,它对传统行业的改造已经势不可挡。作为传统媒体的城市电视台,在媒体业的激烈竞争中,面临着新媒体行业挑战和传统媒体的挤压,转型的任务迫切而且...
[学位论文] 作者：韩丽楠,,
来源：河北工业大学 年份：2018
极大规模集成电路(GLSI)阶段,每个芯片上可集成数十亿个元器件。技术节点到达14nm以下,传统的阻挡层已不能满足技术发展的需求。由于金属材料钌(Ru)具有更低的电阻率,粘结性...
[期刊论文] 作者：韩丽楠,
来源：新金融世界 年份：2019
在国内经济逐步提升的现今时期,国际贸易的竞争环境愈加复杂.在这样的背景下工商管理在国内经济发展中所起到的促进性作用也愈加明显.在本文中,就先对工商管理的特点和职能做...
[学位论文] 作者：韩丽楠,
来源：哈尔滨医科大学 年份：2014
目的:应用超声微泡造影剂测定不同类型原发性青光眼患者的视神经血液供应情况，探讨血流变化与青光眼发病的关系。 方法:分别选取2011年12月至2014年03月在哈医大二院眼科经...
[期刊论文] 作者：韩丽楠,吕岩梅,
来源：山东视听(山东省广播电视学校学报) 年份：2005
【正】2003年的伊拉克战争“烧红”了中央电视台中文国际频道(CCTV-4)和它的一批主持人,这在学界和业界已是不争的话题。如果说,对那场发生在异国他乡的战争的报道样式及在其...
[期刊论文] 作者：韩丽楠,李江,朱凯,,
来源：青年记者 年份：2009
2009年2月18日,广电总局官方网站发布消息:中央电视台旗下的央视网正在推进"国家网络电视台"的筹备工作。3月,广电总局发布2009广播影视科技工作总体要求,对新媒体领域,...
[期刊论文] 作者：王瑶,韩丽楠,朱凯,,
来源：青年记者 年份：2008
关注民生,构建社会主义和谐社会的舆论阵地,不仅仅是传统媒体的责任,网络媒体的作用也不能忽视。在长期的实践中,我们也充分认识到在构建和谐社会的过程中,网络媒体可以发挥...
[期刊论文] 作者：牟婕,韩丽楠,王瑶,,
来源：青年记者 年份：2008
综合频道资源，做强电视品牌，稳步推进广播电视集团化，是近年来电视媒体改革的趋势。为此，2006年底，青岛电视台（QTV）完成了内部管理体制与运行机制的改革，实现了中心制向中心频道制的......
[期刊论文] 作者：吕岩梅,韩丽楠,刘中东,,
来源：山东视听 年份：2002
就在我们经意和不经意间,被称作“第四媒体”的互联网已汹涌澎湃地涌入我们的生活,当人们在尽情地领略和感受互联网的精彩和网络媒体的神奇功能时,传统媒体电视的炫目光环在...
[期刊论文] 作者：徐子力,韩丽楠,张伟森,陈龙,,
来源：机电工程 年份：2014
针对集箱内壁焊瘤打磨作业存在安全性与高效性不足的问题,研制出了一种新型的轮式驱动集箱焊瘤打磨机器人。首先介绍了集箱焊瘤打磨机器人的结构组成和工作原理,根据机器人在...
[期刊论文] 作者：韩丽楠,宋武莲,孙静波,原慧萍,
来源：眼科学报 年份：2021
目的:应用彩色多普勒超声造影检查测定不同类型原发性青光眼患者的视神经血液供应情况,探讨血流变化与青光眼的关系。方法:选取2012年12月至2014年3月在哈尔滨医科大学附属第二医院眼科经临床确诊的原发性闭角型青光眼(primar y angle closure glaucoma,PACG)患......
[期刊论文] 作者：付蕾,刘玉岭,王辰伟,张文倩,马欣,韩丽楠,,
来源：微纳电子技术 年份：2017
在Co化学机械抛光(CMP)过程中,Co的化学反应活性强于Cu,Co/Cu界面存在较大的电化学腐蚀电位差。采用动电位扫描电化学技术,表征金属铜钴表面的电化学反应。采用降低Cu/Co接触...
[期刊论文] 作者：张文倩,刘玉岭,王辰伟,季军,杜义琛,韩丽楠,,
来源：半导体技术 年份：2017
TaN由于其良好的性能广泛用于布线铜与介质之间的阻挡层和黏附层。在对直径为300 mm的TaN镀膜片进行化学机械抛光(CMP)后,对比并分析了两种碱性抛光液对TaN去除速率、片内非...
[期刊论文] 作者：张礼,张保国,罗超,刘宜霖,韩丽楠,缪玉欣,,
来源：微纳电子技术 年份：2017
通过电化学工作站对2英寸(1英寸=2.54 cm)n型GaN晶圆进行了研究,结合X62型单面抛光机研究GaN电化学腐蚀与化学机械抛光(CMP)的一致性,并利用原子力显微镜(AFM)检测抛光后晶片...
[期刊论文] 作者：张凯,刘玉岭,王辰伟,牛新环,江自超,韩丽楠,,
来源：微纳电子技术 年份：2017
针对300 mm正硅酸乙酯(TEOS)镀膜片在化学机械平坦化(CMP)过程中中心去除速率快而边缘去除速率慢的问题,研究了抛光头摆动位置、抛光头不同区域压力和非离子型表面活性剂对TE...
[期刊论文] 作者：张文倩,刘玉岭,王辰伟,牛新环,杜义琛,季军,韩丽楠,,
来源：微纳电子技术 年份：2018
利用不含氧化剂的碱性抛光液对铜和钴进行化学机械抛光,深入分析了抛光液组分包括硅溶胶磨料、FA/O螯合剂以及非离子表面活性剂对两种金属去除速率的影响规律及作用机理。实...
[期刊论文] 作者：张文倩,刘玉岭,王辰伟,牛新环,韩丽楠,季军,杜义琛,
来源：微电子学 年份：2018
碱性条件下,非离子型表面活性剂在阻挡层化学机械平坦化中起着重要的作用.分别对阻挡层材料Cu、Ta以及SiO2介质进行抛光,然后测量铜表面粗糙度.对含有不同浓度活性剂的抛光液...
[期刊论文] 作者：韩丽楠,刘玉岭,王辰伟,张文倩,张凯,杜义琛,付蕾,,
来源：微纳电子技术 年份：2017
Ru作为14 nm及以下技术节点的铜互连极大规模集成电路(GLSI)的新型阻挡层材料,在化学机械平坦化(CMP)工艺中易与Cu发生电偶腐蚀,影响器件的稳定性。采用动电位扫描的电化学方...
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