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[期刊论文] 作者：杨富国,陈晓娟,北原晶子,Aref Alshameri,杜小青,包艳萍,黄德斌,
来源：材料保护 年份：2020
中频磁控溅射镀是真空镀膜技术中最常用的技术之一,目前在科学研究及工业生产中都得到了长足发展。但是在薄膜沉积过程中的工艺参数如中频电流、脉冲负偏压、沉积时间等对薄膜结构及性能的影响多分散于不同的文献中,不利于对这些参数的认识与深入理解。综述了中......
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