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[期刊论文] 作者：Haman Hedaiatmofidi,Alireza Sa,
来源：材料科学与应用期刊(英文) 年份：2014
Metallic titanium film was deposited on H-13 steel substrate at 470°C - 530°C using plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) method. In this...
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