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[期刊论文] 作者：Hiroshi Ishizuka,Sung James C.,
来源：金刚石与磨料磨具工程 年份：2008
Low stress polishing is required for the manufacture of advanced integrated circuits(IC) with node sizes of 45 nm and smaller.However,the CMP community achieved...
[期刊论文] 作者：Hiroshi Ishizuka,柯淑琴,,
来源：轻金属 年份：1984
本发明是关于由氯化镁生产金属镁的电解槽的专利。在用工业规模的电解槽生产金属镁的实践中,通常采用的是由I.G.Farben联合企业(德国)或加拿大铝业公司(加拿大)研制的电解槽...
[期刊论文] 作者：Hiroshi Ishizuka,Sung James C.,Marehito Aoki,Haedo Jeong,Sung Michael,,
来源：金刚石与磨料磨具工程 年份：2008
Low stress polishing is required for the manufacture of advanced integrated circuits(IC) with node sizes of 45 nm and smaller.However,the CMP community achieved...
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