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[会议论文] 作者：LIU Qing,刘青,LI Yuan-liang,李远亮,CUI Zhi-min,崔志敏,LIU Jin-gang,刘金刚,ZHANG Qing-jun,张庆军,ZHANG Yu-zhu,张玉柱,
来源：第十六届冶金反应工程学会议 年份：2012
本文分析了分形理论应用于低硅烧结的必要性；总结了单重分形在低硅烧结方面的应用，并指出了其中的不足；介绍了多重分形及其在多个领域的应用，重点阐述利用多重分形谱对不同R、SiO2含量、MgO含量以及配碳量的情况下的低硅烧结进行冶金分析。表明利用多重分形谱对低硅......
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