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[期刊论文] 作者：Nigel Farrar David Brandt Jame,
来源：集成电路应用 年份：2008
在32nm技术节点以下时，尽管极紫外（EUV）光刻技术已被视为主流的光刻生产技术解决方案，但是如何研发一套可靠、高性能EUV光源系统仍然是摆在业界面前的一道难题。此文将着重介绍了......
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