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[期刊论文] 作者：Kavanagh G.M.,Oh C.,Shams K.,田,
来源：世界核心医学期刊文摘：皮肤病学分册 年份：2005
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Low Plasma Induced Damaged Neutral Beam Etching of Metal Gate in Metal Gate/High-k Dielectric CMOSFE
[会议论文] 作者：Oh,C. K. Kim,G. Y. Yeom,
来源：2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议 年份：2011
As the critical dimension (CD) of the metal-oxide-semiconductor field effect transistor (MOSFET) is scaled down to 45nm node and below,the compatibility of the present gate (poly-Si) with high-k diele...
[期刊论文] 作者：C.,OH C. H.,
来源：中国物理快报（英文版） 年份：2006
The quantum random walk is a possible approach to construct new quantum search algorithms. It has been shown by Shenvi et al. [Phys. Rev. A 67 (2003)52307] that...
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