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[期刊论文] 作者：R.G.FRIESERJ.NOGAY,阴凤鸾,
来源：压电与声光 年份：1980
研究了摄谱系统在CF_3H等离子体工艺研究中的应用。SiO_2的CF_3H等离子体刻蚀速率与等离子体中被测组分的谱线发射强度有关。用CF_3H等离子体刻蚀SiO_2时,HF是一个理想的组分...
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