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[会议论文] 作者：S.-K. Yang,D.-H. Lee,M.-S. Kim,S.-G. Park,
来源：2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议 年份：2011
Downstream oxygen plasma is no longer applicable in stripping photoresist coated on low-k dielectric layers,where oxygen is known to degrade low-k dielectric films,and hydrogen based plasma begins to...
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