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[会议论文] 作者：WaiKin Chan,
来源：第四届光响应有机和高分子材料国际会议(4th International Conference on Photoresp 年份：2008
...
[期刊论文] 作者：Waikin,Li,葛劢冲,等,
来源：电子工业专用设备 年份：2001
极紫外光刻技术(EUVL,λ=13.4 nm)是为小于70 nm特征尺寸图形制作而开发的下一代光刻技术(NGL).在麦迪逊威斯康星大学开发的极紫外光刻系统中,极紫外光源是由电子存储环中的...
[期刊论文] 作者：WANG Gaili,WONG Waikin,LIU Lip,
来源：大气科学进展：英文版 年份：2013
追踪作为多尺度知道的算法追踪雷达的新雷达回响回应由跨关联(MTREC ) 在这研究被开发在不同空间规模分析雷达回响的运动。雷达回响的运动，特别地与对流暴风雪联系了，在导致对...
[期刊论文] 作者：WANG Gaili,WONG Waikin,LIU Liping,WANG Hongyan,
来源：黑龙江科技信息 年份：2013
本文通过对荣华二采区10...
[期刊论文] 作者：Waikin Li,Harum H.Solak,Franco Cerrina,葛劢冲,
来源：电子工业专用设备 年份：2001
极紫外光刻技术 (EUVL ,λ =1 3.4nm)是为小于 70nm特征尺寸图形制作而开发的下一代光刻技术 (NGL)。在麦迪逊威斯康星大学开发的极紫外光刻系统中 ,极紫外光源是由电子存储...
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