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[期刊论文] 作者:袁镜,陈泽民,唐国有,陈金象,张国辉,Yu.M.Gledonov,M.V.Sedysheva,
来源:核电子学与探测技术 年份:2002
用屏栅电离室重点对5.0、5.7、6.5MeV中子64Zn(n, α)61Ni反应角分布和微分截面进行了测量,同时兼测10B(n, α)7Li,利用氚气体通过D(d,n)3He反应来刻度,工作气体采用Kr+4.71%...
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