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<i>In-Situ</i>Monitoring of Chemical Vapor Deposition from Trichlorosila
[期刊论文] 作者：Hitoshi Habuka,Yurie Tanaka, 来源：表面工程材料与先进技术期刊(英文) 年份：2013
Using the langasite crystal microbalance (LCM), the trends in film thickness produced by means of the chemical vapor deposition using trichlorosilane gas, monom...
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