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Outgassing analysis of molecular glass photoresists under EUV irradiation
[期刊论文] 作者：CHEN Li,XU Jian,YUAN Hua,YANG Shu Min,WANG Lian Sheng,WU Yan Qing,ZHAO Jun,CHEN Ming,LIU Hai Gang,LI, 来源：Science China(Chemistry) 年份：2004
A device was designed and assembled to analyze the outgassing of molecular glass(MG)photoresists under extreme ultraviolet(EUV)exposure.The outgassing of the ph...
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