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[期刊论文] 作者：刘小涵, 冯晓国, 赵晶丽, 高劲松,,
来源：光学精密工程 年份：2010
为进一步提高高通光率网栅的电磁屏蔽性能，满足其环境适应性要求，针对线宽约9um、膜厚约0．3um、周期为400um×400um的细薄铜网进行了镀镍工艺实验。首先，经涂胶、直写、显影...
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