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[期刊论文] 作者：李欣,刘建朋,陈烁,张思超,邓彪,肖体乔,孙艳,陈宜方,,
来源：强激光与粒子束 年份：2017
针对氢基硅倍半氧烷（hydrogen silsesquioxane,HSQ）作为深反应离子刻蚀（DRIE）掩膜形成大高宽比纳米硅立柱的工艺进行了系统研究。优化了刻蚀工艺中线圈功率、极板功率和气体流量...
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