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[会议论文] 作者：夏宗仁,贝伟斌,崔坤,秦晓勇,吴剑波,朱怀烈,
来源：2006和谐开发中国西部声学学术会议 年份：2006
本文采用化学还原工艺成功地制备了LN和LT黑色晶片.在这些黑色晶片上制作了中心频率分别为36 MHz和446 MHz的SAW器件.研究表明,黑片工艺显著降低了晶片表面的静电,增加了近紫...
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