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[期刊论文] 作者：王敬宇,左长明,姬洪,,
来源：材料导报 年份：2011
室温下利用射频磁控溅射在Pt／Ti／SiO2／Si（100）上淀积了约200nm厚的PZT铁电薄膜，在N2（纯度为99．999％）气氛中以不同升温速率进行快速热退火，采用X射线衍射法表征其残余应力。结果表明，薄膜......
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