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[期刊论文] 作者：马旭,张胜恩,潘毅华,张钧碧,余成臻,董立松,韦亚一,
来源：激光与光电子学进展 年份：2022
光刻是将集成电路器件的结构图形从掩模转移到硅片或其他半导体基片表面上的工艺过程，是实现高端芯片量产的关键技术。在摩尔定律的推动下，光刻技术跨越了90～7 nm及以下的多个工艺节点，逐步逼近其分辨率的物理极限。同时，光刻系统的衍射受限特性，以及各类系统像差、误......
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