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[期刊论文] 作者：李雨辰,任殿胜,
来源：现代仪器 年份：2005
本文用XPS分析紫外光激发氧化反应后砷化镓表面的化学组成和氧化层厚度.发现,紫外光激发下,GaAs表面生成氧化膜,同时清除表面污染碳.氧化膜中的镓砷比可以与基体完全保持一致...
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