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[期刊论文] 作者：张志坤, 占勤, 窦志昂, 白敬元, 杨洪广,
来源：材料热处理学报 年份：2023
采用等离子增强化学气相沉积方法在p型＜100＞硅片沉积氮化硅薄膜，通过椭偏仪和缓冲氧化物刻蚀液（BOE）溶解实验来表征薄膜的均匀性与致密度，研究了射频功率、腔室气压、气体流量比和衬底温度4个工艺参数对氮化硅薄膜性能的影响。结果表明：在60～100 W范围内，射频功率越大，氮......
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