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[期刊论文] 作者：陈寿天宝,张念椿,魏永明,马晓华,杨虎,庄黎伟,汤初阳,李金荣,郑鹤立,许振良,
来源：山东化工 年份：2022
光刻工艺随集成电路的发展成为核心环节，被誉为集成电路制造这顶皇冠上最耀眼的明珠。而光刻技术离不开其辅助材料光刻胶，每一代光刻技术得到的突破都将在相应光刻胶技术上得到体现，从436 nm光刻技术到248 nm KrF光刻技术、193 nm ArF光刻技术再到EUV光刻技术等，与......
[期刊论文] 作者：龚信瑀,张念椿,谢非,庄黎伟,魏永明,杨虎,李金荣,宋振,郑鹤立,马晓华,汤初阳,许振良,
来源：广东化工 年份：2022
利用静电喷雾方法成功制备了聚乙烯亚胺（PEI）/均苯三甲酰氯（TMC）荷正电纳滤膜，并在此基础上引入NH2-UIO-66（Zr），进一步提升了复合纳滤膜的性能。通过FTIR、SEM、EDS、Zeta电位等表征手段研究了复合膜结构、形貌和表面电荷，并采用错流测试装置对不同重金属溶液进行分离性......
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