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[期刊论文] 作者：焦宗磊,朱健,王守旭,姜国庆,李赟,,
来源：固体电子学研究与进展 年份：2015
基于感应离子耦合等离子体（ICP）刻蚀技术,采用SF6和O2作为刻蚀气体,以金属铝和SiO2作为刻蚀掩膜,系统地研究了3C-SiC悬臂结构的加工方法以及掩膜材料对刻蚀悬臂结构的影响。首...
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