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[期刊论文] 作者：詹宝华,宋晨路,刘涌,朱建强,韩高荣,
来源：材料科学与工程学报 年份：2005
通过硅烷、乙烯和氮气的混合气体在620下采用常压化学气相沉积(APCVD)法沉积了非晶硅薄膜,讨论了乙烯/硅烷的体积比(R=VC2H4/VsiH4)对薄膜的光学性质的影响.用Raman光谱、红...
[期刊论文] 作者：朱建强,刘涌,王靖,詹宝华,宋晨路,韩高荣,,
来源：硅酸盐通报 年份：2005
采用APCVD工艺用硅烷和乙烯为原料在620℃沉积硅薄膜.用AFM观察薄膜表面形貌,用SEM扫描截面测量薄膜厚度.FTIR光谱表明薄膜中存在Si-C.研究了C2H4/SiH4摩尔比对膜厚的影响,随...
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