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[期刊论文] 作者：曾庆高,钟玉杰,江海波,李睿智,,
来源：半导体光电 年份：2016
研究了可取代多晶硅扩散掺杂的离子注入掺杂工艺,通过两种掺杂方式对CCD栅介质损伤、多晶硅接触电阻及均匀性等关键参数影响的对比研究,发现离子注入掺杂制作的多晶硅栅质量...
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