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[期刊论文] 作者：朱德明, 门传玲, 曹敏, 吴国栋,,
来源：物理学报 年份：2004
在室温下利用等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)制备的颗粒膜P掺杂SiO2为栅介质,使用磁控溅射方法利用一步掩模法制备出一种新型结构的侧栅薄膜晶体管.由于侧栅薄膜晶体管具...
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