搜索筛选:
搜索耗时0.8295秒,为你在为你在102,285,761篇论文里面共找到 8 篇相符的论文内容
发布年度:
[会议论文] 作者：韩艳春,
来源：2003全国高分子学术论文报告会 年份：2003
本文重点阐述了作者在利用非光刻技术和自组装方面制作微/纳米图案化研究方面的工作进展以及未来发展趋势.主要包括纳米压印刻蚀、软刻蚀、可控高分子薄膜去浸润和高分子共混...
[会议论文] 作者：丛杨,韩艳春,
来源：2003全国高分子学术论文报告会 年份：2003
嵌段共聚物纳米反应器可以用于制备金属纳米颗粒、金属化合物颗粒等.通过改变纳米反应器中共聚物的组分和嵌段长度可以达到控制产物孔径尺寸,金属纳米颗粒尺寸和尺寸分布的目...
[会议论文] 作者：朱伟平,韩艳春,安立佳,
来源：2003全国高分子学术论文报告会 年份：2003
本文以SBA-15为模板,将硝酸铜的乙醇/水溶液与SBA-15混合,经洗涤、过滤、干燥后放后马釜炉中(200℃,2h),硝酸铜转化为氯化铜,此时的氧化铜是在SBA-15的孔道内.利用氮气吸附仪...
[会议论文] 作者：罗春霞,邢汝博,韩艳春,
来源：2003全国高分子学术论文报告会 年份：2003
本文主要通过毛细作用(capillary force lithography-CFL)使高分子薄膜表面产生规则扰动,然后用带热台的原子力显微镜原位观察其进一步的去浸润过程.探讨薄膜扰动幅度对去浸润过程及最终形貌的影响.......
[期刊论文] 作者：韩艳春,李智兰,曾宪文,,
来源：军事通信技术 年份：2003
文中叙述了相空间重构技术,并将此技术应用于信号处理的探索性研究中,提出了依据相空间图进行目标识别和分类的方法。...
[期刊论文] 作者：王哲,邢汝博,韩艳春,李滨耀,
来源：高等学校化学学报 年份：2003
光刻蚀技术[1]是微电子加工技术中最成功的一种, 但由于受到光学衍射等的限制, 100 nm是光刻蚀的极限, 为此人们探索了许多先进的刻蚀技术[2,3], 如超紫外线刻蚀(EUV)、软X射...
[会议论文] 作者：彭娟,韩艳春,杨宇明,李滨耀,
来源：2003全国高分子学术论文报告会 年份：2003
高分子薄膜的润湿和去润湿行为引起了人们无论从理论还是实验上的广泛研究.本文设计了一种实验装置,提出了一个简单机理来解释聚苯乙烯薄膜的不同润湿性行为....
[会议论文] 作者：付俊,余翔,冯小双,韩艳春,潘才元,杨宇明,李滨耀,
来源：2003全国高分子学术论文报告会 年份：2003
本文设计了一种以冠醚为核心的双臂聚合物.冠醚环之间的偶极相互作用以及它们特殊的冠状立体构型使得含冠醚的化合物具有强烈的自组装能力.在适当的条件下,冠醚环相互叠加形成孔道,被重叠的聚合物臂环绕形成超分子结构.这种超分子结构通常能够进一步自组装形成......
相关搜索：
