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[期刊论文] 作者：Mosbahi,S. Benabdallah,M.R.,
来源：环境科学与工程：英文版 年份：2011
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[期刊论文] 作者：Adam S. Lazorchak,Bing Su,
来源：蛋白质与细胞 年份：2011
Mammalian target of rapamycin complex 2 (mTORC2)is a key downstream mediator of phosphoinositol-3-kinase (PI3K) dependent growth factor signaling.In lymphocytes...
Approximate dynamic programming solutions with a single network adaptive critic for a class of nonli
[期刊论文] 作者：Jie DING,S. N. BALAKRISHNAN,
来源：控制理论与应用（英文版） 年份：2011
Approximate dynamic programming (ADP) formulation implemented with an adaptive critic (AC)-based neural network (NN) structure has evolved as a powerful techniq...
[期刊论文] 作者：S. GUPTA,A. CHATTOPADHYAY,D.K.,
来源：黑龙江科技学院学报 年份：2011
为探究吕家坨井田地质构造格局,根据钻孔勘探资料,采用分形理论和趋势面分析方法,研究了井田7...
Alternative Splice Variants as a New Class of Protein Cancer Biomarker Candidates in Plasma and Tiss
[会议论文] 作者：Gilbert S. Omenn,Rajasree Menon,
来源：第七届中国蛋白质组学大会暨第三届国际蛋白质组学论坛 年份：2011
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[期刊论文] 作者：J,S. Jayalekshmi,,
来源：Optoelectronics Letters 年份：2011
Single crystals of glycinium oxalate (GLO) are grown by solution growth technique. The Z scan technique is used to elucidate the third order nonlinearity in the...
Alternative Splice Variants as a New Class of Protein Cancer Biomarker Candidates in Plasma and Tiss
[会议论文] 作者：Gilbert S. Omenn,Rajasree Menon,
来源：第七届中国蛋白质组学大会暨第三届国际蛋白质组学论坛 年份：2011
Alternative splicing generates protein diversity without increasing genome size,an interesting explanation for the relatively modest number of protein-coding ge...
[期刊论文] 作者：MUHLY Paul S.,SOLEL Baruch,
来源：中国科学：数学英文版 年份：2011
在这份说明报纸，我们描述某些 non-self-adjoint 操作员代数学，强壮的代数学，和他们的表示理论的学习。我们把这些代数学看作代数学(珍视的操作员) 在他们代表的空格工作。我们...
[期刊论文] 作者：S. Ali Shan,A. Mushtaq,
来源：中国物理快报（英文版） 年份：2011
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[期刊论文] 作者：S. AKTAS,M. H. MORCALI,,
来源：Transactions of Nonferrous Metals Society of China 年份：2011
采用活性炭从含57.6g/LPt的稀溶液中吸附回收Pt。研究不同吸附工艺参数对Pt吸附回收率的影响。结果表明,随着活性炭用量的增加、吸附时间的延长和温度的升高,Pt的吸附回收率...
[会议论文] 作者：S. H. Chen,L. Chen,
来源：中国物理学会2011年秋季学术会议 年份：2011
The linear theory,large signal theory and time-dependent simulation were applied on the study of gyrotron backward wave oscillators (gyro-BWO).The linear analysis,which considers the convective loss d...
[期刊论文] 作者：爱伦.S.鲁宾,
来源：财经 年份：2011
萌芽于内战时的公共预算已发生了翻天覆地的改变，折射出城市的发展、经济的跌宕起伏、各种不同意义上的种族与阶级分裂以及有房产的投票者比例的变化。预算也反映了州政府的指导与全面的课税限额的变化。 公共预算在过去一个世纪中已经从拥有财产的精英阶层自......
The optical and electrical characterization of solarcell devices based on the physical parameters of
[会议论文] 作者：Yoonseog Song,S. O. Ryu,
来源：2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议 年份：2011
Polymer solar cells have been receiving increasing attention for the advantages such as low fabrication cost,light weight,and large size....
[期刊论文] 作者：S. O. Soloviev,A. Yu. Kapran,S. N. Orlyk,E. V. Gubareni,,
来源：Journal of Natural Gas Chemistry 年份：2011
Nickel-alumina catalysts supported on cordierite monoliths of honeycomb structure surpass essentially the conventional granulated ones with respect to the outpu...
[期刊论文] 作者：Maxim S. Titushin,Yingang Feng,John Lee,Eugene S. Vysotski,Zhi-Jie Liu,
来源：蛋白质与细胞 年份：2011
In this review we summarize the progress made towards understanding the role of protein-protein interactions in the function of various bioluminescence systems...
[期刊论文] 作者：S. S. Shinde,R. A. Bansode,C. H. Bhosale,K. Y. Rajpure,
来源：城市道桥与防洪 年份：2011
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生、测量监控等方面人手,介绍了S226海滨大桥...
Patterning of SnO2 / SnTe binary mask structure for extreme ultra-violet lithography using inductive
[会议论文] 作者：S. J. Lee,J. H. Lee,N.–E. Lee,S. J. Park,
来源：2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议 年份：2011
Currently,extreme ultra-violet lithography (EUVL) is the major candidate of next generation lithography for below 25 nm technology node....
[会议论文] 作者：Huang,S. Y. Hung,Y. S. Liu,Y. Y. Hung,
来源：国际计算/实验科学与工程学术会议(icces2011) 年份：2011
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Low Plasma Induced Damaged Neutral Beam Etching of Metal Gate in Metal Gate/High-k Dielectric CMOSFE
[会议论文] 作者：S. Min,J. S. Oh,C. K. Kim,G. Y. Yeom,
来源：2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议 年份：2011
As the critical dimension (CD) of the metal-oxide-semiconductor field effect transistor (MOSFET) is scaled down to 45nm node and below,the compatibility of the present gate (poly-Si) with high-k diele...
Patterning of SnO2 / SnTe binary mask structure for extreme ultra-violet lithography using inductive
[会议论文] 作者：S. J. Lee,J. H. Lee,N.–E. Lee,S. J. Park,
来源：2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议 年份：2011
Currently,extreme ultra-violet lithography (EUVL) is the major candidate of next generation lithography for below 25 nm technology node....
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