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[期刊论文] 作者：孙凯,徐万劲,冉广照,,
来源：北京大学学报(自然科学版) 年份：2010
采用反应磁控溅射技术沉积了掺Er的富硅氮化硅（SRN：Er）薄膜和SRN：Er/Ni3个周期的超晶格,两种薄膜都在1100℃进行退火实验。SRN：Er薄膜的光致发光谱为一个峰位在665～750nm的发光带和......
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