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[学位论文] 作者：刘雷华,
来源： 年份：2016
近年来随着半导体工业的不断发展,集成电路的关键尺寸正向着22nm以下的技术节点迈进。器件尺寸的不断减小,导致关键尺寸成为影响器件电气性能的重要因素。如何有效测量和控制关键尺寸成为纳米计量领域的一大难题。传统的测量工具如光学显微镜(OM)、扫描电子显微......
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