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[会议论文] 作者：孙倩, 张连珠,,
来源： 年份：2004
N2-Ar射频放电等离子体广泛应用于微电子工业的刻蚀、气相沉积、氮化物薄膜的制备及金属表面氮化技术等领域。通常在氮气中掺入其它种类气体,可以改善氮气放电的特性,提高氮...
[会议论文] 作者：郝莹莹,张连珠,
来源：第十五届全国等离子体科学技术会议 年份：2011
H2-N2甚高频容性耦台放电等离子体广泛应用于有机低介电系数的刻蚀,无晶氢化硅薄膜沉积和一些微电子设备的表面处理等领域.本文采用PIC/MCC混合自治模型,在频率为60MHz,...
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