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[会议论文] 作者：李薇薇,武睿,刘玉岭,刑哲,
来源：第十三届全国半导体集成电路、硅材料学术会 年份：2003
本文介绍了硅研磨片清洗的重要性,分析了影响研磨质量的主要因素,即重金属杂质和磨盘印.重点阐述了硅研磨片表面沾污的原理,并且通过大量的实验分析得到清洗液的最佳配比以及...
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