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[会议论文] 作者：谢茂浓,彭志坚,唐琳,傅鹤鉴,
来源：中国化学会全国第五届无机化学学术会议 年份：2000
用低温等离子体处理聚硅浣涂层成功地制备了SiO膜.IR谱给出Si-O键的吸收峰波数随氧等离子体处理时间不同在1065-1088cm范围变化;XPS谱给出Si2p的结合能为103.3-103.5eV,硅氧...
[会议论文] 作者：谢茂浓,彭志坚,唐琳,傅鹤鉴,
来源：中国化学会全国第五届无机化学学术会议 年份：2000
用低温等离子体处理聚硅浣涂层成功地制备了SiO膜.IR谱给出Si-O键的吸收峰波数随氧等离子体处理时间不同在1065-1088cm范围变化;XPS谱给出Si2p的结合能为103.3-103.5eV,硅氧原子比为1:1.99;激光椭圆偏振仪测得折射率在1.30-1.55范围;MOS电容的高频C-V特性曲线表......
[会议论文] 作者：曾红梅,傅鹤鉴,马洪,谭建,苏志珊,谢茂浓,
来源：第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会 年份：1999
用自制的聚硅烷为抗蚀剂，分别用酚醛树脂、聚氨脂树脂和醇酸树脂作平坦层以３０８ｎｍＸｅＣｌ准分子激光为刻蚀光源，采用接近式曝光方式，通过Ｏ〈，２〉－ＲＩＥ对显影后图形进行处理，实现了亚微一宽的掩模图形向......
[会议论文] 作者：傅鹤鉴,马洪,谭建,苏志珊,谢茂浓,曾红梅,
来源：第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会 年份：1999
用自制的聚硅烷为抗蚀剂，分别用酚醛树脂、聚氨脂树脂和醇酸树脂作平坦层以３０８ｎｍＸｅＣｌ准分子激光为刻蚀光源，采用接近式曝光方式，通过Ｏ〈，２〉－ＲＩＥ对显影后图形进行处理，实现了亚微一宽的掩模图形向......
[会议论文] 作者：谢茂浓[1]彭志坚[2]唐琳[1]傅鹤鉴[2],
来源：中国化学会全国第五届无机化学学术会议 年份：2000
用低温等离子体处理聚硅浣涂层成功地制备了SiO膜.IR谱给出Si-O键的吸收峰波数随氧等离子体处理时间不同在1065-1088cm范围变化;XPS谱给出Si2p的结合能为103.3-103.5eV,硅氧...
[会议论文] 作者：傅鹤鉴,马洪,彭志坚,苏志珊,曾红梅,谢茂浓,
来源：中国化学会全国第五届无机化学学术会议 年份：2000
用“顺点滴式”方法改进了单体合居,较原“全混式”提高了产率,降低了消耗;用Wurtz法以二氯硅烷和三氯硅烷为原料,经“预聚”和“混聚”二种方式合成了枝状聚硅烷....
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