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[会议论文] 作者：鲍希茂,华雪梅,
来源：第六届全国电子束离子束光子束学术年会 年份：1991
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[会议论文] 作者：鲍希茂,郭强,华雪梅,
来源：固体电子学研究与进展 年份：1989
浅结制备是超大规模集成电路发展的关键技术之一。硅中硼、磷等杂质注入,在退火时发生异常扩散,使浅结的控制困难。异常扩散是一个瞬态快速扩散过程。对于硼,在退火开始时,...
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