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[会议论文] 作者:S. Agrawal, 来源:国际补充医学研究会第六届年会 年份:2011
[会议论文] 作者:S. Si,D. S. Xue,G. P. Zhang, 来源:中国物理学会2011年秋季学术会议 年份:2011
[会议论文] 作者:S. Tinck,A. Bogaerts, 来源:2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议 年份:2011
In this talk,we will explain how to model etching and deposition processes for electronic device fabrication,as applied in Shallow Trench Isolation (STI) and th...
[会议论文] 作者:S. Tinck,A. Bogaerts, 来源:2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议 年份:2011
In this talk,we will explain how to model etching and deposition processes for electronic device fabrication,as applied in Shallow Trench Isolation (STI) and th...
[会议论文] 作者:Sakai,S. Saito,N. Ninomiya,M.Wakita,S. Mimura, 来源:国际计算/实验科学与工程学术会议(icces2011) 年份:2011
[会议论文] 作者:Takayama,S. Saito,A. M. Ito,S. Yonemura,H. Nakamura, 来源:国际计算/实验科学与工程学术会议(icces2011) 年份:2011
[会议论文] 作者:Kim,S. Lee,Y. Jung,W. S. Choi, 来源:2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议 年份:2011
Various techniques such as seeding with diamond particulates,surface scratching,and laser pre-processing,have been applied to enhance the nucleation rate for growing diamond films....
[会议论文] 作者:Gilbert S. Omenn,Rajasree Menon, 来源:第七届中国蛋白质组学大会暨第三届国际蛋白质组学论坛 年份:2011
[会议论文] 作者:Gilbert S. Omenn,Rajasree Menon, 来源:第七届中国蛋白质组学大会暨第三届国际蛋白质组学论坛 年份:2011
Alternative splicing generates protein diversity without increasing genome size,an interesting explanation for the relatively modest number of protein-coding ge...
[会议论文] 作者:S. H. Chen,L. Chen, 来源:中国物理学会2011年秋季学术会议 年份:2011
The linear theory,large signal theory and time-dependent simulation were applied on the study of gyrotron backward wave oscillators (gyro-BWO).The linear analysis,which considers the convective loss d...
[会议论文] 作者:Yoonseog Song,S. O. Ryu, 来源:2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议 年份:2011
Polymer solar cells have been receiving increasing attention for the advantages such as low fabrication cost,light weight,and large size....
[会议论文] 作者:S. J. Lee,J. H. Lee,N.–E. Lee,S. J. Park, 来源:2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议 年份:2011
Currently,extreme ultra-violet lithography (EUVL) is the major candidate of next generation lithography for below 25 nm technology node....
[会议论文] 作者:Huang,S. Y. Hung,Y. S. Liu,Y. Y. Hung, 来源:国际计算/实验科学与工程学术会议(icces2011) 年份:2011
[会议论文] 作者:S. Min,J. S. Oh,C. K. Kim,G. Y. Yeom, 来源:2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议 年份:2011
As the critical dimension (CD) of the metal-oxide-semiconductor field effect transistor (MOSFET) is scaled down to 45nm node and below,the compatibility of the present gate (poly-Si) with high-k diele...
[会议论文] 作者:S. J. Lee,J. H. Lee,N.–E. Lee,S. J. Park, 来源:2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议 年份:2011
Currently,extreme ultra-violet lithography (EUVL) is the major candidate of next generation lithography for below 25 nm technology node....
[会议论文] 作者:S. Oh,K. S. Min,C. K. Kim,G. Y. Yeom, 来源:2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议 年份:2011
For the various electronic devices such as microelectromechanical system (MEMS) devices,thin film transistor-liquid crystal display (TFT-LCD) devices,flexible display devices,etc.,dielectric thin film...
[会议论文] 作者:Debray,S. Rivoirard, 来源:the 4th international conference on magneto science (第四届磁科学国 年份:2011
[会议论文] 作者:S. Moriguchi,K. Sawada,A. Yashima, 来源:国际计算/实验科学与工程学术会议(icces2011) 年份:2011
[会议论文] 作者:Seifert,S. Leoni,M. Baldoni, 来源:国际计算/实验科学与工程学术会议(icces2011) 年份:2011
[会议论文] 作者:Voskressensky,Roman S. Borisov, 来源:第五届多组分反应及相关化学国际研讨会(MCR2011) 年份:2011
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