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[报纸论文] 作者:孙建诚, 孙青, 景俊海, 傅俊兴, 王玉清,,
来源:西北电讯工程学院学报 年份:1988
本文论述了光化学气相淀积(光CVD)SiO2薄膜的原理及方法。用光CVD技术在50~200℃条件下,在Si、InSb及HgCdTe晶片上淀积了SiO2薄膜。对薄膜的物理性质和化学性质进行了讨论。结果...
[报纸论文] 作者:安家瑶, 王孝涛, 胡继高, 刘国典, 何升韬, 汪东林, 傅熹,
来源:人民政协报 年份:2001
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