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作为电力系统的关键元器件,电力电子器件应用领域广泛。第三代半导体材料GaN具有禁带宽度宽、电子迁移率高、临界击穿电场强、化学......
氮化镓(GaN)材料具有宽禁带、高电子漂移速度、高热导率等优良特性,在功率半导体应用领域具有得天独厚的优势。同时,基于GaN材料的异......
对AlGaN/GaN HEMT栅槽低损伤刻蚀技术进行研究,通过加入小流量的具有钝化缓冲作用的C2H4,对Cl2/Ar/C2H4的工艺条件进行了优化,有效地降低......
研制了一款X波段增强型AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)。在3英寸(1英寸=2.54 cm)蓝宝石衬底上采用低损伤栅凹槽刻蚀技术制备了......