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光刻胶去除技术相关论文
常压射频冷等离子体系统及其在光刻胶去除技术中的应用
本课题研制了常压射频喷枪式冷等离子体和浸入式冷等离子体两种设备,后者的直径为150mm,是目前世界上已报道的能达到的最大放电面积......
学位
干法刻蚀
光刻胶去除技术
冷等离子体
常压射频
电容耦合
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