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凹槽图形相关论文

电子束曝光UV3正性抗蚀剂的工艺研究

为了在体硅CMOS FinFET中用等离子体腐蚀精细凹槽图形,研究了将电子束直写曝光用于原为深紫外光学曝光的UV3正性抗蚀剂的工艺技术;......

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电子束曝光凹槽图形 UV3 正性抗蚀剂曝光延迟效应光刻 Semiconductor process Lithography Electron-beam d

ZEP520正性电子抗蚀剂的工艺研究

详细研究了ZEP520在Si衬底上的对比度、灵敏度、分辨率,并分析了曝光剂量、抗蚀剂厚度对ZEP520线条和圆孔尺寸的影响;同时还初步研......

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ZEP520抗蚀剂电子束直写曝光凹槽图形分辨率裂纹

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