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凹槽工件表面常规磁控与高功率脉冲磁控溅射沉积钒薄膜的研究(英文)

高功率脉冲磁控溅射是一种制备高质量薄膜的新兴方法。在相同的平均功率下分别采用HPPMS技术和传统DCMS技术在凹槽工件表面制备了......

期刊

工件表面薄膜脉冲磁控溅射磁控溅射沉积凹槽工件功率脉冲柱状晶 vanadium 等离子体侧壁

凹槽工件表面常规磁控与高功率脉冲磁控溅射沉积钒薄膜的研究

高功率脉冲磁控溅射是一种制备高质量薄膜的新兴方法.在相同的平均功率下分别采用HPPMS技术和传统DCMS技术在凹槽工件表面制备了钒......

期刊

高功率脉冲磁控溅射凹槽工件钒薄膜均匀性膜厚

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