刻蚀腔室相关论文
针对晶圆边缘非垂直刻蚀剖面问题,对300mm双频容性耦合等离子体刻蚀机晶圆边缘离子平均入射角度的分布特性进行了数值模拟研究。采......
从反应离子刻蚀设备腔室内部结构细节角度出发,研究腔室约束环对以450 mm为代表大晶圆尺寸刻蚀机流场影响.与同类研究相比,本文旨......
为确定某种新型刻蚀机最优的品圆与喷淋头问距（Gap），通过CFD仿真分析气体在不同Gap腔室内的物质输运分布，并结合乙醇环境下HF酸刻蚀SiO......
