剩余反射率相关论文
With the great development of laser standard systems and high-precision laser measurement systems, demands of optical sy......
随着20世纪90年代后期因特网的蓬勃发展,对通信容量及传输速率提出无止境的要求,造就了DWDM系统的极大成功.光纤通讯器件跟电子器......
采用H参量模型，导出了外腔激光器（ECLD）调谐范围内双稳环的环宽解析式以及决定双稳环存在条件的倾斜因子表达式；数值模拟了剩余反射率......
对半导体激光器腔面分别蒸镀单层和双层减反射膜（ＡＲ）制备超辐射发光管（ＳＬＤ），测试了器件功率特性、光谱特性和远场分布，并计算了器件端面的剩余......
为了研究频率偏离增益峰值时光栅外腔半导体激光器的双稳特性,对比了以前研究双稳态的原简化模型和近期建立的H参量简化模型、H参......
文章指出了ＳｉＯ２－ＺｒＯ２两层减反射膜经过热处理后光学性能发生变化的规律，并对之进行了分析研究，从而应用到实践中解决了生产中出现的问题。......
在大数值孔径深紫外光学系统中,需要使用宽入射角范围的增透膜光学元件。选择LaF3和MgF2两种镀膜材料,设计了适用于深紫外宽入射角......
采用H参量简化模型研究光栅调谐外腔半导体激光器的双稳特性,导出以H参量表达的双稳环环宽解析式,给出了其适用范围,得到剩余反射......
论述行波半导体激光放大器(TW—SLA)的基本原理、结构和性能,对它在光纤通信中的应用及发展前景作了较全面的分析。......
在中心波长为1 310 nm的InGaAsP半导体激光器的端面镀制了剩余反射率＜10-4的3层减反射膜,得到了自发辐射谱波纹＜0.5 dB的半导体光放......
计算了适用于193nm增透膜设计与制备的基底与薄膜材料的光学常数,并在此基础上对193nm增透膜进行了设计、制备与性能分析.发现基底......
为了研制低损耗、高性能的193 nm氟化物增透膜,研究了基底和不同氟化物材料组合对氟化物增透膜的影响。在熔石英基底上,将挡板法和......
利用时域有限差分法研究了光在三角形晶格二维光子晶体中的传播特性,从TM波的反射着手,系统研究了不同入射光角度、波长以及温度的......
采用电子束与离子辅助沉积技术,在氟化镁晶体材料上制备3.5～4.9μm增透与保护膜.经过实验,选取氧化钛与二氧化硅作为薄膜材料,并优......
<正> 提高多透镜光学系统的质量,是与加工获得消色差增透膜相联系着的。这种增透膜在宽广的光谱区域中具有最小的剩余反射率(R_剩<......
O484.1 2004053087 MCP电子透射膜的制备及半视场特性=Fabrication of electron transmission film at the input of MCP and its ......
在光学光电子技术中,端面剩余反射率是光电元件的一项重要技术指标,对元件性能起着至关重要的作用。因此一种简便快捷的高精度的测......
高重复频率，波长可调谐的超短光脉冲源是光波分复用／时分复用(WDM／OTDM)高速率光纤通信系统、全光处理、全光网络中的重要组成部分。......
