化学增幅型相关论文
光刻胶又被称为光致抗蚀剂,是制造半导体器件基材上的光敏保护膜,具有抗刻蚀性能。本论文研究了不同结构的光产酸剂（Photo Acid Gen......
综述了用于248 nm化学增幅型深紫外光刻胶的不同种类和结构的成膜树脂,以及所使用单体的研发进展,包括聚甲基丙烯酸甲酯及其衍生物......
