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半导体GaAs相关论文
约束刻蚀剂层技术用于半导体GaAs抛光整平的研究
简单介绍了现有的一些抛光技术,着重阐述了一种具有高度距离敏感性的抛光整平技术——约束刻蚀剂技术的原理.并利用该技术以光滑的......
会议
约束刻蚀层技术
抛光整平
表面微细加工
半导体GaAs
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