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厚膜系统相关论文
退火对Fe(200nm)/Si系统中硅化物的形成和微结构的影响
采用直流磁控溅射方法,在Si(100)衬底上沉积厚约200nm纯金属Fe膜,随后在真空退火炉中不同退火条件下对样品进行热处理,形成Fe—Si化合物......
期刊
磁控溅射
厚膜系统
真空退火
Fe—Si化合物
Magnetron sputtering
Thick film system
Vacuum Annealin
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