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原位Li-Si处理相关论文
HL—1M装置第一壁锂—硅复合涂层及其对等离子体性能的影响
最近在HL-1M装置上新开发出一种第一壁原位锂-硅复合涂覆技术,涂覆后,装置真空室内的真空度上升,杂质气体分压强下降,低于单一的硅化和锂......
期刊
HL-1M装置
第一壁
原位Li-Si处理
等离子体
性能
锂-硅复合涂层
托卡马克装置
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